抖音上有个视频，说中国芯片胜利反击，中微5nm蚀刻机获台积电认可
光刻机相当于把设计好了的电路图复制到硅片上，然后刻蚀机再以这个电路图为模板，进行作业。要达到5nm曝光精度难于上青天，中微做出了5nm蚀刻机，并不等于能做5nm光刻机。
中微的光刻机还停留在90nm阶段，而在当今全球范围，只有荷兰的ASML公司一家掌握了高端光刻机技术，进入了5nm阶段，这样看来，我们与世界高端光刻机技术的差距可不是一星半点。
虽然中微公司的刻蚀设备已逐渐在国际市场打开了新天地，但在体量上，中微仍与半导体巨头们有很大差距。半导体市场呈现出垄断的经济特征，例如美国的应用材料公司、泛林半导体和科天半导体，荷兰的ASML以及日本的东京电子，都是中微强劲的对手。
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